AURON HFE-72DE – Reinigungsmittel für Präzisionsreinigung

AURON HFE-72DE ist ein leistungsstarkes industrielles Reinigungsmedium für anspruchsvolle Präzisionsreinigungsprozesse. Die azeotrope Mischung aus Hydrofluorethern (HFE) und trans-1,2-Dichlorethylen (t-DCE) kombiniert eine hohe Reinigungsleistung mit geringer Oberflächenspannung und schneller, rückstandsfreier Trocknung.

Mit einem Siedepunkt von nur 43 °C eignet sich AURON HFE-72DE insbesondere für die Tauchreinigung und Dampfentfettung von komplexen und fein strukturierten Bauteilen.

AURON HFE-72DE eignet sich als Alternative für Anwendungen, in denen bisher
3M Novec™ 72DE eingesetzt wurde.

Ihre Vorteile auf einen Blick

✔ Hohe Reinigungsleistung – löst unter anderem Öle, Harze und Wachse
✔ Sehr geringe Viskosität – gute Benetzung auch komplexer Bauteilgeometrien
✔ Geringe Oberflächenspannung – erreicht auch feine Strukturen und schwer zugängliche Bereiche
✔ Rückstandsfreie Trocknung in der Dampfreinigungsphase
✔ Nicht brennbar – kein Flammpunkt
✔ Thermisch stabil bis 150 °C
✔ ODP 0 – kein Ozonabbau
✔ Konstante Zusammensetzung durch azeotropes Verhalten
✔ 1:1 Ersatz für Novec™ 72DE

Warum AURON HFE-72DE?

Entwickelt für anspruchsvolle Reinigungsprozesse

AURON HFE-72DE wurde für industrielle Anwendungen entwickelt, bei denen hohe Sauberkeit und Prozessstabilität entscheidend sind.

Als echtes Azeotrop besitzt die Flüssigkeit am Siedepunkt eine konstante Dampf- und Flüssigkeitszusammensetzung. Dadurch bleibt die Zusammensetzung beim Wechsel zwischen flüssiger und gasförmiger Phase erhalten – ein wichtiger Vorteil für reproduzierbare Reinigungsprozesse.

Durch die Kombination aus hoher Lösekraft, niedriger Viskosität und einer Oberflächenspannung von nur 19 mN/m kann das Reinigungsmedium auch fein strukturierte und komplex geformte Bauteile zuverlässig benetzen.

Was entfernt AURON HFE-72DE?

AURON HFE-72DE verfügt über ein hohes Lösungsvermögen und eignet sich zur Entfernung unterschiedlicher industrieller Verunreinigungen, darunter:

• Öle
• Esteröle
• Silikonöle
• Harze
• Wachse
• bestimmte Kunststoffe bzw. polymerbasierte Rückstände

Aufgrund der hohen Reinigungswirkung sollte die Materialverträglichkeit vor dem Einsatz geprüft werden.

Typische Anwendungen

Elektronik

Zur Reinigung von elektronischen Bauteilen und fein strukturierten Komponenten, insbesondere wenn eine hohe Reinigungswirkung und rückstandsfreie Trocknung erforderlich sind.

Mikromechanik & Präzisionsbauteile

Die geringe Oberflächenspannung und niedrige Viskosität ermöglichen eine gute Benetzung kleiner Strukturen, Spalten und komplexer Geometrien.

Optische Komponenten

Geeignet für industrielle Reinigungsprozesse von optischen Linsen und anderen Präzisionskomponenten.

Kälte- und Klimaanlagen

AURON HFE-72DE kann als Reinigungsmedium für industrielle Anwendungen im Bereich von Kälteanlagen eingesetzt werden.

Dampfentfettung & Tauchreinigung

Besonders geeignet für Reinigungsanlagen mit Tauch- und Dampfprozessen. In der Dampfreinigungsphase ermöglicht das Medium eine schnelle und rückstandsfreie Trocknung.

Technische Daten

Prozesssichere Präzisionsreinigung

Die Eigenschaften von AURON HFE-72DE ermöglichen effiziente industrielle Reinigungsprozesse. Das Medium dringt aufgrund seiner niedrigen Viskosität und Oberflächenspannung auch in schwer zugängliche Bereiche ein und unterstützt die Entfernung von Verschmutzungen auf komplexen Bauteiloberflächen.

Bei der Dampfentfettung sorgt die schnelle Verdampfung anschließend für eine trockene und rückstandsfreie Oberfläche.

Weitere Alternativen zu ehemaligen 3M Novec™ Reinigungsflüssigkeiten

Neben AURON HFE-72DE bietet Puretecs weitere Reinigungsflüssigkeiten als Alternativen zu ehemaligen 3M™ Novec™ Reinigungsmedien an.
Folgende Produkte mit entsprechender chemischer Zusammensetzung stehen zur Verfügung:

• AURON HFE-71DE
• AURON HFE-71DA
• AURON HFE-72DA
• AURON HFE-73DE
• AURON HFE-73DA

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