HFE-7200 Mixture – Speziallösemittel

Hochleistungsfluid für präzise Reinigung und Wärmeübertragung (Ersatz für 3M™ Novec™ 7200) 

HFE-7200 Mixture ist ein speziell für die Halbleiterindustrie entwickeltes Hochleistungsfluid zur präzisen Reinigung, rückstandsfreien Trocknung und zuverlässigen Kühlung in sensiblen Fertigungsprozessen. Die Kombination aus zwei Hydrofluorether-Komponenten (CAS 163702-06-5 und 163702-05-4) ermöglicht eine außergewöhnlich stabile und reproduzierbare Prozessperformance.

Insbesondere in kritischen Anwendungen wie CVD-Anlagen, Ionenimplantation oder Chiller-Systemen überzeugt HFE-7200 durch seine Fähigkeit, selbst feinste Verunreinigungen effektiv zu entfernen – ohne Rückstände zu hinterlassen oder empfindliche Materialien anzugreifen.

Die sehr niedrige Oberflächenspannung sorgt für eine optimale Benetzung selbst komplexer Geometrien, während die geringe Viskosität eine schnelle und gleichmäßige Verteilung gewährleistet. Dadurch werden Bauteile effizient gereinigt und zuverlässig getrocknet – auch in schwer zugänglichen Bereichen.

Dank ihrer hohen chemischen Reinheit und eng tolerierten physikalischen Eigenschaften (z. B. Siedepunkt, Dampfdruck und Viskosität) bietet die Flüssigkeit maximale Prozesssicherheit und konstante Reinigungsergebnisse bei gleichzeitigem Schutz vor Kontamination und Korrosion.

Auch bei niedrigen Temperaturen bleibt HFE-7200 hervorragend fließfähig. Der extrem niedrige Stockpunkt in Kombination mit der geringen Viskosität ermöglicht eine zuverlässige Reinigung und Kühlung im Tieftemperaturbereich.

Die Flüssigkeit ist nicht entflammbar, elektrisch isolierend und erfüllt höchste Anforderungen an Umwelt- und Arbeitssicherheit. Mit ODP = 0 und niedrigem GWP stellt sie eine moderne Alternative zu klassischen Fluorchemikalien dar.

HFE-7200 Mixture ist als direkter Ersatz für 3M™ Novec™ 7200 qualifiziert und erfüllt die strengen Reinheitsanforderungen moderner Halbleiterfertigungen.